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最終更新日 2010年3月31日
特許等タイトル 排ガス洗浄装置
【A】技術関連情報
1.技術分野

化学・薬品

2.機能

洗浄・除去
環境・リサイクル対策

3.利用分野・適用製品

製造装置から排出されるガスの除去

4.目的・効果・特徴

【課題】下端が散水洗上部に通過する導入管の上端に旋回水室を設け、その中心のガス入口管との間の勘定間隙から流下する排ガス導入部を山水洗浄部の前段に設けた排ガス洗浄装置において、ガス入口管の付着物除去頻度を低減すると共に排ガス洗浄効果を高めること。

5.技術概要

【解決手段】排ガス導入部(11)のガス入口管(30)を外側管(31)と内側管(32)との2重管構造とし、外側管(31)と内側管(32)の間隙(41)に乾燥ガスを供給して、洗浄水と接する外側管(31)の下端を排ガスから遮断し、ガス入口管 (30)への付着製物質の付着を防止する。また、散水洗浄部(14)の後段に充填材処理部(16)を一体に形成し、散水洗浄部(14)の処理ガスを吸引して充填材処理部(16)に移送するベンチュリー部(15)を装置内部に設けて、コンパクトで洗浄効果の高い排ガス洗浄装置(10)を形成する。

6.図・特記事項・その他 【図1】本発明の排ガス洗浄装置の全体図である。(クリックすると図面にジャンプします)
【図2】本発明の排ガス洗浄装置の排ガス導入部の断面図である。(クリックすると図面にジャンプします)
【図3】従来の排ガス洗浄装置の全体図である。(クリックすると図面にジャンプします)
【図4】従来の排ガス洗浄装置の排ガス導入部の断面図である。(クリックすると図面にジャンプします)
【符号の説明】
10・・・排ガス洗浄装置
11・・・排ガス導入部
14・・・散水洗浄部
15・・・ベンチュリー部
16・・・充填材処理部
20・・・旋回水室
26・・・導入管
28・・・旋回水流
29・・・水膜
30・・・ガス入口管
33・・・乾燥ガス供給路
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【B】特許関連情報
1.特許関連番号 出願番号 特願平11-079689
公開番号 特開2000-271421
公告番号
登録番号 特許第3476126号
2.出願日 平成11年(1999)3月24日
3.発明の名称 公開時 排ガス洗浄装置
登録時 排ガス洗浄装置
4.権利者 出願人 セイコー化工機株式会社
特許権者 セイコー化工機株式会社
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【C】技術移転関連情報
1.ライセンス情報 実施権許諾・譲渡 許諾
共同開発・研究の意思
サンプルの提供
技術指導
その他の条件
2.事業化情報 実施実績
事業化実績
実施許諾実績
その他、設備投資、特別資格、追加開発、マーケット情報などについての特記事項
3.提供・開示可能なノウハウまたは周辺技術
(秘密保持契約締結時)
図面の開示(量産仕様・試作仕様)
ノウハウ/マニュアルの開示
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提供者について
会社名・機関名 セイコー化工機株式会社
郵便番号 661-0026
所在地 尼崎市水堂町4-1-31
担当部署 経営管理部
担当者 総務課長補佐 井上 悟史
電話 06-6438-0841
FAX 06-6438-3001
ホームページ http://www.seikow.co.jp
メールアドレス s_inoue@seikow.co.jp
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