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最終更新日 2010年3月31日
特許等タイトル 半導体排ガス除去方法
【A】技術関連情報
1.技術分野

化学・薬品

2.機能

洗浄・除去
環境・リサイクル対策

3.利用分野・適用製品

排ガス除去装置

4.目的・効果・特徴

【請求項1】酸化第二鉄(Fe2O3)、酸化第二錫(SnO2)、三酸化ビスマス(Bi2O3)、二酸化マンガン(MnO2)または酸化第一銅(Cu2O)からなる酸化触媒を懸濁させたアルカリ金属物またはアルカリ土類金属水酸化物の水溶液とモノシラン(SiH4)を気液接触させることにより、モノシラン(SiH4)を除去する方法。

5.技術概要

6.図・特記事項・その他 【第1図】(クリックすると図面にジャンプします)
【第2図】(クリックすると図面にジャンプします)
【第3図】(クリックすると図面にジャンプします)
【第4図】(クリックすると図面にジャンプします)
【第5図】(クリックすると図面にジャンプします)
【第6図】(クリックすると図面にジャンプします)
【第7図】(クリックすると図面にジャンプします)
【第8図】(クリックすると図面にジャンプします)
【第9図】(クリックすると図面にジャンプします)
【第10図】(クリックすると図面にジャンプします)
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【B】特許関連情報
1.特許関連番号 出願番号 特願昭63-074206
公開番号 特開平01-245835
公告番号
登録番号 第2634056号
2.出願日 昭和63年(1988)3月28日
3.発明の名称 公開時 半導体排ガス除去方法
登録時 半導体排ガス除去方法
4.権利者 出願人 セイコー化工機株式会社
特許権者 セイコー化工機株式会社
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【C】技術移転関連情報
1.ライセンス情報 実施権許諾・譲渡 許諾
共同開発・研究の意思
サンプルの提供
技術指導
その他の条件
2.事業化情報 実施実績
事業化実績
実施許諾実績
その他、設備投資、特別資格、追加開発、マーケット情報などについての特記事項
3.提供・開示可能なノウハウまたは周辺技術
(秘密保持契約締結時)
図面の開示(量産仕様・試作仕様)
ノウハウ/マニュアルの開示
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提供者について
会社名・機関名 セイコー化工機株式会社
郵便番号 661-0026
所在地 尼崎市水堂町4-1-31
担当部署 経営管理部
担当者 総務課長補佐 井上 悟史
電話 06-6438-0841
FAX 06-6438-3001
ホームページ http://www.seikow.co.jp
メールアドレス s_inoue@seikow.co.jp
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